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离子研磨系统

ION Milling System

 
 

型号:IM4000 Plus

厂家:日本日立

启用时间:2018.8

放置地点:新能源大楼201

联系人及电话:张少鸿  020- 37246206

 

主要配置与技术指标:

1. 截面研磨系统:加速电压:0-6kV;加工速度:500μm/h,6kV的条件下,Si片;最大样品尺寸:20(W)×12(D)×7(H)mm;样品可移动范围:X:±7mm, Y:0~3mm;样品摆动角度:±15°±30°±40°;具有液氮制冷功能,最低温度可达-100℃。

2. 平面研磨系统:最大样品尺寸:50φ×25(H)mm;样品加工区域:φ5 mm;样品摆动角度:±60°,±90°;样品旋转速度:1r/min,25r/min。

3. 真空转移盒:带有气体保护装置,可实现样品真空转移至SEM等外围设备。

4. 样品清洗仪:通过产生紫外线和臭氧的方式清洗样品,样品清洗和样品存贮功能。

5. 导航和红外CCD:Mini CMOS Camera,7吋液晶显示器;8MP USB导航相机。

 

主要功能:

       利用氩离子对样品进行无应力加工的理想工具,即可以进行平面加工,也可以进行截面切割,不会产生传统的切割或机械抛光带来的变形错位、机械应力或划痕污染等对样品的形貌观察和结构分析带来的不利影响。

 

应用范围:

       离子研磨系统是目前材料、生物等研究必不可少的基本材料样品制备工具。用于生物能、太阳能、新材料等领域研究。